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監視カメラ用のレンズドライバIC、ズーム/フォーカス/アイリス制御を1チップで実現 監視カメラ用のレンズドライバIC、ズーム/フォーカス/アイリス制御を1チップで実現 [2010年2月9日]

パナソニック セミコンダクター社は2010年1月、監視カメラやネットワークカメラのズーム、フォーカス、アイリス（絞り）制御を1チップで実現するレンズドライバIC「AN41908A」を開発したと発…

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「コンパレータ」の選択基準 「コンパレータ」の選択基準 [2010年2月号]

コンパレータは、2つの電圧を比較して、どちらが高いかを判断するという、単純で基本的な処理を行う部品である。その一方で、理解しておくべき仕様が無数に存在するため、コンパレータを用いた回路の設計は容易だとは言えない。本稿では、まずオペアンプとの比較を通し、コンパレータの特徴について説明する。その上で、コンパレータを選択する際に検討すべき6つのポイントについて解説する。

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DESIGN CENTERS

サレンキー型フィルタの阻止域特性を改善 サレンキー型フィルタの阻止域特性を改善

一般に、サレンキー型ローパスフィルタでは、阻止帯域内にゲインが上昇する部分があることが知られている。その部分では、フィルタリングの効果が低下し、信号をリークしてしまう可能性がある。本稿では、ボルテージフォロワ回路を1つ追加する構成により、この阻止帯域におけるリークを緩和する手法を紹介する。

  • 基礎から学ぶRFスイッチ

    • RFスイッチの分野では、電気機械式、PINダイオード、GaAsといった従来型に代わって、バルクCMOS、MEMS、SOSなどを採用した新しい製品が徐々に増えつつある。これらは、従来のスイッチに比べて占有面積が小さい、寿命が長い、といったメリットを持つ。ただし、こうしたメリットに目を向けるだけではなく、それぞれの仕様が要件に合っているか否かを正しく見極めることが重要だ。

  • 微細化に堪え得るオンチップSRAM

    • ICの製造プロセスの微細化を進めるには、それに伴って生じる新たな課題に対処していかなければならない。そうした課題の1つが、プロセスばらつきの影響に堪え得るオンチップのSRAMを開発することである。今後も、SRAMの微細化トレンドを維持するためには、従来とは異なる技術的な工夫を盛り込む必要がある。

  • FPGA検証のコツ

    • FPGAを用いてビデオ処理システムを設計すると、多くの技術的な利点が得られる。その半面、設計が複雑になってしまう場合が多い。その複雑さに比例して困難になるのが、システムの検証作業である。本稿では、こうした検証作業の際に留意すべき点や、設計上の誤りを回避するための方法について解説する。

  • 画像処理プロセッサの基本を学ぶ

    • 組み込み機器では、画像処理に特化した専用プロセッサを用いるケースが増えている。専用ハードウエアアクセラレータを設計するよりも短期間でシステムを構築することができ、汎用プロセッサやDSPよりも高いチップ面積効率が得られるからだ。ただし、専用プロセッサの実力を最大限に発揮するには、画像処理の詳細とプロセッサのアーキテクチャについて、「並列度」の観点から深く理解しておく必要がある。

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BUSINESS CENTERS

「品質工学」のススメ

研究/開発、あるいは生産の現場では、機能、品質、コストにかかわる技術活動において、意思決定のスピードとその確かさに対する要求がより一層高まっている。そして、方向性の決定に際しては、意思決定のための明快な手段が必要になる。その手段が「品質工学」である。本稿では、品質工学の思想/哲学、使用する道具と使い方、そして品質工学を活用することで得られる効果などについてまとめる。

  • マルチストローブによるソース同期I/Fの試験

    • データ転送を高速に行う最近のICは、外部インターフェースとして、ソースシンクロナス方式を採用している。このインターフェースをICの自動試験装置（ATE）によって正確に試験するには、タイミングマージンの減少に対処しなければならない。本稿では、その対処法としてマルチストローブを用いる手法を紹介する。

  • どう選ぶ？SoCの製造プロセス

    • SoCの製造にどのプロセスを用いればよいのか——一昔前であれば、この問いに対する答えを出すのは、さほど難しいことではなかった。しかし、多様化するトランジスタ技術を利用したさまざまな回路ブロックがSoCの構成要素になり、またプロセスの微細化にかかわる常識が従来とは異なるものとなった結果、この選定は一筋縄ではいかない複雑なものとなった。本稿では、さまざまなトレードオフ要因によって複雑化したこの選定作業の現状を整理したい。

  • VE活用のポイントをつかむ

    • 設計者にとって、製品のコストを削減することは大きな責務である。しかし、コスト削減の取り組みは、1つの確立された方法論にのっとって行わなければ、効率良く、確実に成果を挙げることはできない。この課題を解決するものとして知られているのが、VE（価値工学）である。本稿では、このVEを製品開発に適用する上でポイントとなる事柄を紹介する。

  • 幕開け迫る「45nm時代」

    • 多くのIC設計者にとって、45nmのプロセスノードが現実のものとなる日が近づいている。45nmプロセスでは、90nm/65nmプロセスから何が変わるのか。IC設計者は新たに何を学べばよいのか。ファウンドリ、EDAベンダーの動向を基に、45nmプロセスにおける課題を浮き彫りにしたい。

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